在半导体制造行业，DUV（深紫外）光刻机可以用于制造7nm及以上工艺的芯片，涵盖了大部分数字芯片和几乎所有的模拟芯片，而ASML则凭借着对EUV光刻机和浸润式DUV光刻机的垄断，掌控着全球几乎所有晶圆厂的芯片制造命脉。 2024年4月，克里斯托夫·富凯（Christophe ...

此消息一出，对于掌握EUV曝光机主导地位的ASML（艾司摩尔）来说始料未及，该公司先前曾强调，EUV机台的开发仰赖超过40个国家、数百家供应商技术 ...

如今根据最新消息，Rapidus筹备芯片制造的动作非常迅速，已经成为日本首家获得ASML EUV光刻机设备的公司。 12月14日，ASML制造的第一批EUV光刻机系统 ...

当然一台顶级的EUV光刻机需要的不仅是顶级的光源系统、还要有物镜系统、双工件台、控制系统四大件组成。其中物镜系统ASML使用的是来自于蔡司的 ...

市场消息指出，曝光机商ASML取消非员工订购限量版Twinscan EXE:5000乐高订单。这款售价230美元乐高是3.8亿美元High-NA EUV高数值孔径极紫外曝光机的微缩 ...