这些计算机芯片推动了当今人工智能、高性能超级计算机和智能手机领域的惊人创新。 如今，由LLNL领导的一个新的研究合作伙伴关系旨在为下一代极紫外（EUV）光刻技术奠定基础，该技术围绕实验室开发的驱动系统——大口径铥（BAT）激光系统展开。这一突破 ...

快科技1月6日消息，美国劳伦斯利弗莫尔国家实验室（LLNL）正在研究一种效率比传统CO2 EUV激光器高10倍的激光器，这将为下一代EUV光刻技术发展奠定 ...

最后，对于中芯国际面临的技术瓶颈，王国辉承认，中国目前确实无法获得ASML的EUV光刻机，而这些设备是在尖端节点上生产芯片所需的。 然而 ...

NIL 系统提供的优势可能会挑战价值 1.5 亿美元的机器，这些机器在当今先进的芯片制造中占据主导地位，即极紫外 （EUV） 光刻扫描仪。如果佳能是 ...

sources capable of delivering 100 W of in-band EUV power at the entrance of the illumination system are required. Fortunately, certain plasmas such as those of tin and xenon are efficient emitters ...